近日，据X平台用户@JerryCap爆料，英特尔向ASML追加了High NA EUV光刻机订单，数量从一台增至两台。这一举动表明英特尔正加大对Intel 14A制程的投入力度。同时，三星也追加了两台订单，使其总量达到七台。

High NA EUV光刻机作为面向埃米级制程的尖端设备，具备极高的分辨率，但单台价格高达3.7亿美元。目前，仅有台积电、英特尔、三星和SK海力士等少数厂商能够承担。然而，存储厂商对尖端制程的需求较低，主要应用集中在逻辑芯片领域。

台积电此前明确表示，其A16/A14制程不会使用High NA EUV光刻机。而英特尔和三星则寄希望于该设备，以加速在尖端制程上的突破。英特尔已明确计划在Intel 14A制程中使用High NA EUV光刻机进行量产，并对制程进行了重新设计以满足代工客户需求。

据推测，到2027年，Low NA EUV光刻机的出货量将从52台增加到56台，而High NA EUV光刻机的出货量将从8台提升至10台。其中，英特尔和SK海力士分别将High NA EUV光刻机的采购量从1台增加到2台。

近期，英特尔获得了美国政府89亿美元、软银集团20亿美元以及英伟达50亿美元的入股，极大缓解了资金压力。这为英特尔在尖端制程和晶圆代工业务上的资本支出提供了支持。同时，英特尔也将其在High NA EUV领域的经验积累视为与台积电竞争的重要优势。